本多超声波清洗机W-200-HFMK II 适合细腻的清洗
因为中频清洗，对工件损伤很少。并且和低频清洗相比，具有清洗效果均匀，噪音小的特点。
容易清洗微小的赃物
适合于清洗硬盘，半导体，液晶等微小的赃物。
适合于染色，脱气，溶解，搅拌等用途
使用于磁头，镜片等的染色和脱气，化学品的溶解和搅拌等。
本多超声波清洗机W-100-HFMK II 适合细腻的清洗
因为中频清洗，对工件损伤很少。并且和低频清洗相比，具有清洗效果均匀，噪音小的特点。
容易清洗微小的赃物
适合于清洗硬盘，半导体，液晶等微小的赃物。
适合于染色，脱气，溶解，搅拌等用途
使用于磁头，镜片等的染色和脱气，化学品的溶解和搅拌等。
